集成電路超純水設備

型號：集成電路超純水設備
電壓：220V
特點：可生產一級、二級、三級純水
應用：集成電路實驗室、生產用超純水

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集成電路超純水設備

在大規模的集成電路超純水水質中，優(you) 先獲得關(guan) 注的水質指標為(wei) ：電阻率、TOC、矽、微粒、重金屬、溶解氧、堿金屬等，這類物質會(hui) 溶於(yu) 水中，而在集成電路芯片的製造過程中，使用的水質中所含離子成分越多，則對產(chan) 品的製造工藝的影響越大，使得產(chan) 品良率降低。

集成電路的超純水設備常用於(yu) 工業(ye) 半導體(ti) 原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜板的製作以及矽片氧化用的水汽源等。此外真空管等的製作、厚膜和薄膜電路、固態電子器件、印刷電路等也都是需要使用超純水。隨著科技的不斷發展，集成電路的集成度與(yu) 日俱增，對水質的要求也隨之增高，從(cong) 而使得超純水處理工藝及產(chan) 品的可持續性、生產(chan) 的連續性、設備的自動化和簡易性都提出了更加嚴(yan) 格的要求。

工藝流程：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透（反滲透膜表麵帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI係統→微孔過濾器→用水點

滲源純水針對於(yu) 現在的集成電路用超純水設備采用先進的全自動雙級反滲透+EDI電除鹽+拋光混床處理技術，在前置預處理部分配套使用反滲透處理，能有效的去除水中各種鹽分和雜質，緊接著使用EDI電除鹽和拋光混床技術，能有效的去除水質的可溶性離子，進一步的提升出水水質，使得最終的出水水質達到用水工藝要求。

設備特點：

1.采用進口增壓泵，噪音低效率高，穩定可靠
2.全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便。
3.采用全自動預處理係統，實現無人化操作，減少人工維護成本。
4.采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉。
5.切合當地水質的個(ge) 性化設計，全方位滿足需求。
6.在線水質監測控製，實時監測水質變化，保障水質安全。
7.節省了再生用水及再生汙水處理設施，產(chan) 水率高(可達95%)。
8.無須酸堿儲(chu) 備和酸堿稀釋運送設施，使用安全可靠，避免工人接觸酸堿。
9.簡化安裝過程，降低場地占地麵積。

應用領域：

1、半導體(ti) 材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。
2、晶體(ti) 管生產(chan) 中主要用於(yu) 清洗矽片，另有少量用於(yu) 藥液配製。
3、半導體(ti) 材料、晶元材料生產(chan) 、加工、清洗。
4、集成電路生產(chan) 中高純水清洗矽片。
5、電子管生產(chan) 、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液。
6、光電產(chan) 品、其他高科技精微產(chan) 品。
7、顯像管和陰極射線管生產(chan) 、配料用純水。
8、電解電容器生產(chan) 鋁箔及工作件的清洗。