超純水與(yu) 去離子水之前的區別並不是很大，因為(wei) 兩(liang) 者在製取工藝上幾乎相差無幾。超純水機的使用因不同的實驗室對水質的要求不同，工藝基本都有很大的變化，比如雙級反滲透、單級反滲透，是否需要通過離子交換柱進一步提純等。去離子水老式的製取方法采用混床工藝，現代普遍使用EDI電滲析技術進行製取去離子水，而超純水一般可不使用EDI進行提純。

超純水是為(wei) 了研製超純材料（半導體(ti) 原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨(lin) 界精細技術生產(chan) 出來的水，其電阻率大於(yu) 18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以采用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標準化組織ISO/TC 147規定的“去離子”定義(yi) 為(wei) ：“去離子水完全或不完全地去除離子物質。”如今的工藝主要采用RO反滲透+EDI電滲析技術製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以汙染離子交換柱從(cong) 而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。

可從(cong) 兩(liang) 者的用途上看：

1.超純水的用途：

電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品；

單晶矽、半導體(ti) 晶片切割製造、半導體(ti) 芯片、半導體(ti) 封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔淨產(chan) 品及各種元器件、高壓變電器的清洗等。

2.去離子水的用途：

實驗室、化驗室用水，一般實驗室的常規試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等；電子工業(ye) 生產(chan) ，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶矽半導體(ti) 等；電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；

汽車、家用電器、建材表麵塗裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等；石油化工行業(ye) ,化工反應冷卻水、化學藥劑、生產(chan) 配液用水等；工業(ye) 紡織印染、鋼鐵清洗用水等；食品、飲料、酒類、化妝品生產(chan) 用水；海水、苦鹹水等淨化。

推薦：EDI模塊詳解