國產(chan) 半導體(ti) 芯片一直都無法成為(wei) 半導體(ti) 芯片的有力競爭(zheng) 者，龐大的進口芯片卻成為(wei) 了國外企業(ye) 賺錢的有力途徑，但在精密的芯片生產(chan) 行業(ye) 來看，中國依然有著不小的差距，沒有技術與(yu) 設備的支持，很難做到真正的國產(chan) 。

生產(chan) 半導體(ti) 芯片必然需要使用超純水設備，一台對水質淨化比較好的設備能增加製造出來產(chan) 品的穩定性，不單單性能優(you) 越，而且耐用性和殘次率也大大的降低，這將是為(wei) 企業(ye) 生產(chan) 成本降低的有效手段。

隨著5G市場的突破，國人實現在信息行業(ye) 的曲線超車，雖然一時間還是很難取得國際上大多數國家的支持，卻也成為(wei) 了實現一小部分的成功，這將是一個(ge) 好的開端。國內(nei) 的芯片製造工藝已經贏得了國際的認可，所以三星在華增投中國芯片工廠情理之中的事情。在半導體(ti) 行業(ye) 的生產(chan) 過程中，使用超純水對生產(chan) 芯片進行去汙早就是行業(ye) 中公認的方式。隨著生產(chan) 芯片的存儲(chu) 數值的增加，對於(yu) 去汙水要求也在逐漸增加，特別對水質中金屬離子的含量要求也在不斷的增加，其中在16M的DRAM器件生產(chan) 過程，對於(yu) 去汙超純水中NA、K、CL、Cu、Fe、Zn、Cr、Mn等微量元素的的要求更低，這就對使用的超純水設備工藝以及耗材更換品質要求極高。

半導體(ti) 行業(ye) 超純水生產(chan) 工藝：
 

預處理-加酸中和-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-臭氧殺菌-用水點

在半導體(ti) 行業(ye) 的超純水生產(chan) 過程中，除了常規的水質淨化工藝外，增加了酸中和使水質偏堿處理，這樣能使水質更符合反滲透膜的處理要求，增加反滲透膜的使用時間，降低更換成本。除了使用常規的紫外燈殺菌外，另增加的臭氧殺菌能高效的去處水中一些難纏的微生物與(yu) 細菌對半導體(ti) 電子生產(chan) 的影響。

半導體(ti) 行業(ye) 用超純水設備特點：
 

1、整體(ti) 化程度高、易於(yu) 擴展、增加膜數量即可增加處理量。
 

2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。
 

3、膜組件為(wei) 複合膜卷製而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。

4、能耗低、水利用率高、運行成本低。
 

滲源半導體(ti) 行業(ye) 用超純水設備性能設計中，能夠連續穩定的製備品質優(you) 良的超純水，除去了之前因為(wei) 樹脂再生而停止生產(chan) 線運行，使用EDI電除鹽能有效的降低水中的金屬離子，超純水裝置結構設計相對靠緊，占地麵積小，可以為(wei) 企業(ye) 節省很多空間。

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