電子半導體(ti) 超淨高純(VLSD) 試劑是大規模集成電路(IC) 及高檔半導體(ti) 器件製造過程的專(zhuan) 用化學品，主要用於(yu) 矽單晶片的清洗、光刻、腐蝕工序中，它的純度和潔淨度對集成電路的成品率、電性能、可靠性都有著重要的影響。

隨著IC集成度的不斷提高，對超淨高純試劑的質量指標提出了更高要求。國際上半導體(ti) 工業(ye) 協會(hui) (Semiconductor Industry Association) 新近推出Semi C7 (適合0.8~1.2μm 工藝技術) 和Semi C8 (適合於(yu) 0.2~0.6μm 工藝技術) 級別試劑質量標準。

中國的超淨高純試劑有低塵高純級、MOS級、BV-I 級、BV-I級、BV-皿級(相當於(yu) Semi C7 質量標準)。

水質標準

1、ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體(ti) 工業(ye) 用超純水標準》

2、歐盟電子級超純水標準

3、中國電子工業(ye) 國家標準GB/T11446.1-1997

技術要求

半導體(ti) 芯片用水主要在於(yu) 前端晶棒矽切片冷卻用水，基板晶圓片檢測清洗用水，中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗，後段檢測封裝清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生長用水，中段主要在曝光、顯影、去光阻清洗用水，後段檢測封裝用水。同時，半導體(ti) 行業(ye) 對TOC的要求較高。