光電光學玻璃用超純水設備主要是在玻璃清洗的時候為(wei) 超聲波清洗進行供水，確保產(chan) 水水質在18.2MΩ.cm，從(cong) 而滿足試驗用水需求，這是因為(wei) 在光電光學的玻璃行業(ye) 中，通過超聲波清洗鏡片是為(wei) 了保證鏡片的通透程度。

研磨是光學玻璃生產(chan) 中決(jue) 定其加工效率和表麵質量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要汙染物為(wei) 研磨粉和瀝青，少數企業(ye) 的加工過程中會(hui) 有漆片，其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為(wei) 主的堿金屬氧化物，根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉，在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡麵被劃傷(shang) 或腐蝕，玻璃研磨過後，需要用超純水進行產(chan) 品的清洗，以獲得高品質的產(chan) 品。

而源水中含有大量的懸浮物、顆粒物、以及離子物質，會(hui) 導致在使用超聲波清洗的過程中汙染和劃傷(shang) 鏡片，從(cong) 而導致鏡片清晰度不夠，而滲源給超聲波提供的超純水設備，采用了雙級反滲透+EDI工藝，可以有效去除原水中的顆粒物質和汙染物，確保最終的出水水質能夠達到18.2MΩ.cm，設備采用PLC+智能觸摸屏控製，全自動化處理能夠保證係統的穩定性。