EDI係統在運行過程中存在一個(ge) 平衡狀態,即:進離子總數=出離子總數,宏觀表現就是3個(ge) 工作區間相對穩定,不發生上下移動。如果模塊的工作條件發生變化,則需要比較長的時間來達到平衡狀態。係統在運行中可調因素大致有進水流量、濃水流量、電壓等。

進水流量增加,模塊的工作壓力也相應增加,如果超過EDI的處理範圍,出水水質會(hui) 顯著變差。所以當進水的電導比較高時,適當地調節進水的流量是必需的。當進水的電導比較小時,也可以在EDI係統壓力允許的範圍內(nei) 增加進水的流量,以提高產(chan) 水的效率。

濃水流量的變化是另一個(ge) 調節係統平衡的要素,特別是對於(yu) 係統中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子si(矽)也有一定關(guan) 係。由於(yu) SI在 25℃,PH值是6～8的水體(ti) 中的溶解度是120mg/L。所以進水的濃縮倍率達到一定程度後,SI在濃水中就會(hui) 飽和,導致不能進行更深度的除矽,這也是 確定濃水流量下限的條件之一。

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那麽(me) 係統中的樹脂會(hui) 更多的和離子發生交換,相應的工作區間就往出水側(ce) 移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這 一過程中,出水電導會(hui) 發生一定的變化,出水的弱電離子增加是最明顯的表現。如果電壓上升或是進水離子減少,則係統的工作區間會(hui) 向進水側(ce) 發生移動,表現為(wei) 出 水水質變好,弱電離子的含量減少。所以判斷係統的平衡狀態可以通過出水水質變化,弱電離子的漏出多少來實現,並可以通過工作區間的移動來解釋。