作為(wei) 實驗室廣泛使用的一種溶劑，水質的重要性已經越來越為(wei) 實驗室工作人員所關(guan) 注。

關(guan) 於(yu) 水中汙染物的種類，大家已經基本熟知，關(guan) 於(yu) 水質的指標，大家對於(yu) 電阻率，TOC可能也不陌生，但要提到水中含氧量這個(ge) 參數，大家卻不一定都了解。隨著技術發展以及對一些領域認知的提升，水中含氧量其實已經成為(wei) 一個(ge) 不容小覷的關(guan) 鍵性參數。

通常，水中氣體(ti) 雜質為(wei) 二氧化碳、氧氣、氮氣、惰性氣體(ti) 等，即便是通過超層層純化，水中的氣體(ti) 依然會(hui) 存在殘留;並且由於(yu) 的高度溶解性，特別容易吸收環境中無處不在的氣體(ti) 物質，比如氧氣等。雖然在純水中氣體(ti) 含量不高，但對於(yu) 一些特殊應用，純水中溶解氧指標還是至關(guan) 重要的。

比如在食品發酵領域，就會(hui) 涉及到對水中溶氧含量的的要求。在啤酒的釀造過程中，溶解氧的控製很重要，通常應控製在0.10 ppm左右。溶解氧過多，會(hui) 造成啤酒香氣和口感變化、啤酒花芳香味消失、啤酒中不飽和脂肪酸氧化產(chan) 生異味等問題，並且啤酒中的蛋白多肽類物質氧化後會(hui) 形成渾濁物，甚至造成渾濁。所以，控製啤酒生產(chan) 用水中的含氧量是非常重要的一個(ge) 環節。

另外，酸奶等使用發酵工藝製作的食品均對水中溶解氧指標有很高的要求。

還有最近一直廣受關(guan) 注的半導體(ti) 芯片領域 ——芯片在光刻前需要清洗矽晶圓，去除汙染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性。清洗使用的超純水中，溶氧過高影響芯片的氧化膜的厚度，進而影響芯片的性能。美國材料協會(hui) 對於(yu) 電子和半導體(ti) 工業(ye) 所需要的純水給出了嚴(yan) 格的標準，《ASTM D 5127-13, Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》中對Type E-1級純水的溶氧指標進行了規定。

值得一提的是，作為(wei) 電子信息產(chan) 業(ye) 支柱的芯片行業(ye) 一直被稱為(wei) 我國科技產(chan) 業(ye) 的軟肋，現在國家已經正式出手，加大投資，助力中國芯片產(chan) 業(ye) 的發展。從(cong) 目前的行業(ye) 布局來看，未來這個(ge) 領域挑戰與(yu) 機遇並存，有很大的發展潛力。相信隨著“中國芯”的爆發與(yu) 突破，未來純水標準中關(guan) 於(yu) 溶氧指標的相關(guan) 規定一定會(hui) 應運而生。

溶解氧顧名思義(yi) 就是溶解在水中的氧分子，通常用DO表示。溶解氧的飽和度和溫度、壓強有很大的關(guan) 係，在25℃時，1個(ge) 標準大氣壓下，飽和溶解氧的濃度是8.25 mg/L。通常我們(men) 會(hui) 使用溶氧儀(yi) 檢測溶解氧濃度，檢測方法主要有兩(liang) 種：電流測定法和熒光猝滅法。

目前關(guan) 於(yu) 規格及試驗方法已經發布了很多的標準-《GB/T 6682-2008 分析實驗室用水規格和試驗方法》；《GB/T 33087-2016 儀(yi) 器分析用高純水規格及試驗方法》，《中國藥典》等，對於(yu) 電阻率，總有機碳等指標做了明確界定，但對於(yu) 純水中溶解氧等氣體(ti) 雜質的含量要求卻鮮有涉及。

隨著各行各業(ye) 的深入發展，未來對實驗室分析檢測的要求也會(hui) 越來越細化，相信不久的將來，國內(nei) 的純水標準也會(hui) 增加相關(guan) 的項目。今後用戶要求的水質報告，可能也不僅(jin) 僅(jin) 隻是電阻率，TOC值，重金屬含量了，而是要求越來越完善，溶氧度，pH……一份詳細的水質報告，才能讓用戶對自己的工作更加有掌控。